等離子表面處理儀的核心結(jié)構(gòu)圍繞等離子體生成與樣品處理設計，主要包括以下模塊：
等離子體發(fā)生器可通過射頻電源、微波電源或直流電源將氣體(如氬氣、氫氣、氮氣)離化為等離子態(tài)，產(chǎn)生包含離子、電子、活性基團等的高活性物質(zhì)。
真空系統(tǒng)由真空腔體(不銹鋼或石英材質(zhì))和真空泵(干泵或油泵)組成，用于維持處理所需的真空環(huán)境，確保等離子體穩(wěn)定生成。
反應室(真空腔體)是樣品放置區(qū)域，配備電極組件(如平板式、圓筒式或箱式結(jié)構(gòu))，通過電場作用激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子體。
控制系統(tǒng)采用PLC、單片機或觸摸屏控制，實現(xiàn)參數(shù)調(diào)節(jié)(如真空度、處理時間、氣體流量)、設備監(jiān)控及故障診斷。
氣體輸送系統(tǒng)通過流量控制器準確導入工藝氣體，確保處理效果穩(wěn)定。
等離子表面處理儀通過以下步驟實現(xiàn)樣品表面處理：
·真空泵將反應腔體內(nèi)氣體抽至設定真空度，為等離子體生成提供條件。
·通入工藝氣體后，等離子體發(fā)生器在電極間產(chǎn)生高壓交變電場，加速自由電子能量，激發(fā)氣體分子形成等離子體。
·高活性等離子體與樣品表面污染物(如有機物、微顆粒)發(fā)生物理或化學反應：
·物理碰撞：離子風沖擊材料表面，斷裂化學鍵，增加粗糙度。
·化學反應：活性基團與污染物反應生成揮發(fā)性物質(zhì)，被真空泵抽離。
·表面改性：放電產(chǎn)生的臭氧等強氧化劑使材料表面氧化，引入極性基團(如羰基、過氧化物)，提升表面能。
·通過清潔、活化、刻蝕等作用，改善樣品表面粘附力、印刷性、涂布性等性能。
地址：北京市豐臺區(qū)科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室
郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028